Runway 于 2026 年 10 月 26 日推出 App Studio，让创作者用自然语言搭建带独立界面的媒体工具，并连接品牌素材、参考资料和工作流。
把常用步骤封装成工具
用户可从既有 Agent 会话或 Workflow 开始，固定提示词、模型链和参数，也可重新描述需求；平台提供产品视觉、局部修图等内置应用作为起点。
分享依托 Runway 账户
应用默认私有，可按计划权限分享给团队或发布链接。访问者需要 Runway 账户，运行时使用自己的积分；企业管理员可限制模型和公开分享。
付费计划包含入口，使用仍计费
付费计划已开放构建，免费账户可使用内置及他人分享的应用。构建、运行和托管会消耗现有积分，不能将无额外订购理解为无限免费，生成素材也需核对效果与权利。
官方资料 1。资料核对于 2026-10-27。